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Elektronenstrahllithografie

Examples from the Internet (not verified by PONS Editors)

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Nanostrukturierung von Oberflächen durch Elektronenstrahllithografie

Komponenten integriert-optischer Bauelemente, zum Beispiel für optische Netzwerke oder optische Sensoren, besitzen zum Teil Abmessungen unter 1 µm.

www.hft.e-technik.tu-dortmund.de

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Nano-structuring of surfaces by e-beam lithography

Components of integrated optical elements, which are needed for optical networks or sensors, include structures with dimensions below 1 micron.

www.hft.e-technik.tu-dortmund.de

Periodische, lithografisch erzeugte Metalloberflächen haben diese Nachteile nicht und können durch die reproduzierbare Veränderung einzelner Prozeßschritte für maximale Signalverstärkungen optimiert werden.

Die Strukturierung der Substrate erfolgt durch Elektronenstrahllithografie in eine PMMA-Schicht ( Polymethylmethacrylat ) mit Schichtdicken zwischen 100nm und 300nm.

Als Elektronenstrahlschreiber dient ein JEOL JSM-6400 Rasterelektronenmikroskop mit einem ELPHY Quantum System der Raith GmbH.

www.hft.e-technik.tu-dortmund.de

Periodical metal surfaces generated by lithographic techniques do not have these disadvantages and can be optimized by the adaptation of single process steps for maximal signal amplification.

The structuring of the substrates is obtained by e-beam lithography of a PMMA ( Polymethylmethacrylat ) layer with a layer thickness between 100 nm and 300 nm.

For e-beam lithography a JEOL JSM-6400 scanning electron microscope with an ELPHY Quantum System from Raith GmbH is used.

www.hft.e-technik.tu-dortmund.de

Wegen der begrenzten Auflösung durch die Wellenlänge des Lichts müssen dabei schon spezielle Tricks ( Phasenschiebermasken ) eingesetzt werden.

Zur Realisierung von Strukturgrößen im Bereich von 1nm wird die Elektronenstrahllithografie eingesetzt.

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www.nanoscience.at

Because of the limited resolution due to the wavelength of the light already now special tricks have to be used ( such as phase shift masks ).

To realize structures in the range of 1nm electron beam lithography is used.

Bottom Up

www.nanoscience.at

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