Um Strukturen auf die Chips aufzubringen, werden diese mit einem extrem lichtempfindlichen Fotolack beschichtet.
Der Fotolack wird durch eine Maske hindurch belichtet und dort zersetzt, wo Licht auftritt.
In der Halbleiterfertigung der nächsten Generation werden Strukturgrößen unterhalb von 60 nm angestrebt, um höhere Speicherdichten und Schaltgeschwindigkeiten zu erreichen.
www.schaeffler.deIn order to apply structures to the chips, these are coated with an extremely light-sensitive photographic lacquer.
The photographic lacquer is exposed through a mask and decomposes where light falls.
In the next generation of semiconductor production, the aim will be to produce structures less than 60 nm in size in order to achieve higher storage densities and switching speeds.
www.schaeffler.deHochpräzise Linearführungen für Koordinatentische
Um Strukturen auf die Chips aufzubringen, werden diese mit einem extrem lichtempfindlichen Fotolack beschichtet.
Der Fotolack wird durch eine Maske hindurch belichtet und dort zersetzt, wo Licht auftritt.
www.schaeffler.deHigh precision linear guidance systems for X-Y co-ordinate tables
In order to apply structures to the chips, these are coated with an extremely light-sensitive photographic lacquer.
The photographic lacquer is exposed through a mask and decomposes where light falls.
www.schaeffler.deSpiegelabmessungen liegen hier bei 10 μm oder größer.
Durch das Auslenken der Mikrospiegel werden die Strukturinformationen mit hoher Bildrate in den Fotolack übertragen.
Weitere Anwendungsfelder liegen in der Halbleiterinspektion und -messtechnik, in der Mikroskopie sowie in der Laserbeschriftung, -markierung und -materialbearbeitung.
www.ipms.fraunhofer.deThe mirror dimensions are 10 μm or larger.
By tilting the micromirrors, structural information is transferred to a high resolution photo resist at high frame rates.
Further fields of application are semiconductor inspection and measurement technology, microscopy and prospectively laser printing, marking and material processing.
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